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終了

第43回、第44回研究会

定員を超えましたので、受け付けを締め切りました。

次世代を担う若手(35歳未満)の化粧品技術者を対象に「分散技術(基礎技術-処方開発への応用)」に関する一連のプロセスを学ぶ2回開催のセミナーを企画しました。第43回は「基礎技術、表面処理技術」、第44回は「製剤への応用」をテーマに、それぞれの技術ポイントを第一人者の開発秘話や技術ポリシーを交えてご紹介します。
講演後、テーブル単位でのグループディスカッションを行い理解を深めます。さらに会場を移して若手技術者間の交流を深めるための交流討論会を実施します。分散技術に関する総合的な知識の習得、若手技術者間の交流ために是非2回通してご参加ください。各回定員は70名です。詳細は資料をご覧ください。
 
期日 2018年10月04日(木) 午後 1:30〜午後 6:30
会場 学士会館
住所 東京都千代田区神田錦町3-28
会場地図URL http://www.gakushikaikan.co.jp/access/
講師 第43回 大東化成工業㈱ 田中 巧 氏
     黒田総合技研㈱ 黒田 章裕 氏
第44回 ㈱コーセー 増渕 祐二 氏
     ㈱資生堂 那須 昭夫 氏
参加資格 正会員、准会員、正会員代理、35歳未満
イベントのみ SCCJ会員 : 3,000円
参加費用備考 各回3,000円、43、44回両日参加の場合は6,000円になります。
資料1 資料1
お申し込み 日本化粧品技術者会 東京支部
お問い合わせ TEL:03-6431-9196 FAX:03-6431-9126

申込期間は終了しました。