日本化粧品技術者会 THE SOCIETY OF COSMETIC CHEMISTS OF JAPAN

コロイド・界面技術者フォーラムでは、第一線でご活躍している先生をお招きし、じっくり話を伺う機会を提供しています。本年は、コロイド・界面化学分野の最新の製剤化技術に触れることで、コロイド・界面現象を深く理解する場をオンライン開催にて提供します。企業・大学・公共研究機関に所属する研究員が密に語り合い刺激し合える場を設けることで、視野の拡大・研究意欲の鼓舞・研究者ネットワーク形成等に貢献します。
会　期　令和4年11月18日(金)　オンライン開催
会　告:会告PDFファイル

SESSION 1　講演
13:00-15:05　企業の講師陣4名、大学の講師1名による洗浄技術の応用事例の紹介
13:05-13:20 新規スポンジ構造会合体を活用した水系高洗浄力メイク落とし
　　　　　　　　　　　 　株式会社資生堂 グローバルイノベーションセンター　渡邊 由紀 氏
13:25-13:40 角栓を崩壊除去する新しい洗浄技術
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　花王株式会社 スキンケア研究所　生垣 信一 氏
13:45-14:00 ケラチンの頑固な汚れを簡単に洗浄するための界面活性剤と
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　キレート材の相乗効果
　　　　　　　　　　　　ライオン株式会社 研究開発本部 先進解析科学研究所　須藤 慎也 氏
14:05-14:20 N-アミル-N-(2-ヒドロキシエチル)-β-アラニン塩のアミノ酸系界面活性剤
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：特異な界面挙動と洗浄剤への応用
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　日油株式会社 油化学研究所　森川 稔之 氏
14:25-15:05 界面活性剤の泡沫の安定性と構造の評価
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　奈良女子大学　吉村 倫一 氏
SESSION 2　ディスカッションタイム
15:10-17:40 ブレイクアウトルームに分かれた講師とのディスカッションタイム
　　　　　　＊すべての講師とのディスカッションタイムがあります。
　　　　　　＊ディスカッション時間25分×5。

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お申し込み・参加費
■お申込み方法
コロイドおよび界面化学部会Webサイト（https://colloid.csj.jp/form/view.php?id=18874）にアクセスし、お申し込みください。
＊令和4年9月19日（月）受付開始、申込締切日：11月11日（金）、定員：40名

■参加費（税込）
部会員　5,000円　　日化・協賛学会員　7,000円　　非会員　9,000円　　学生　3,000円
*ご勤務先が法人部会員の場合は部会員、日本化学会法人会員の場合は日本化学会員、協賛法人の場合は協賛学会員扱いとなります。
*協賛学会は以下の通りです：日本化粧品技術者会、日本油化学会（五十音順）

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お問い合わせ
日本化学会　コロイドおよび界面化学部会　企業委員会
　E-mail: tech@colloid.csj.jp　　電話: (03)3292-6163