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第37回「SCCJセミナー」明日から使える分散技術—その理論と応用—

今回は「明日から使える分散技術—その理論と応用—」と題し、製剤技術の基礎のひとつとなる分散をテーマに取り上げました。
今回のセミナーでは大学から1名の先生、業界内外から6名の先生を講師としてお招きし、さまざまな関連した基礎研究や技術動向について広くお話いただきます。また本セミナーの特色でもある、講演後のフリーディスカッションの場もご用意いたします。講師の皆様と直接議論する事で、聴講するだけでは得られない新たなヒントも見つけられるものと思います。こちらへも奮ってご参加下さい。

◆参加申込◆
下記のお申込用紙へ必要事項を御記入の上、SCCJ本部事務局宛FAXにてお申込下さい。
FAX:045-590-6093
【講演内容・スケジュール】
【参加申込用紙&詳細案内】
期日 2011年02月25日(金) 午前 10:15〜午後 5:50
会場 大阪国際交流センター 大ホール
住所 〒543-0001大阪市天王寺区上本町8-2-6
会場地図URL http://www.ih-osaka.or.jp/access/
講師 千葉大学大学院工学研究科 大坪泰文先生
大東化成(株) 田中巧氏
(株)資生堂 那須昭夫氏
(株)カネボウ化粧品 永井智雄氏
(株)コーセー 紺野義一氏
(株)井上製作所 大江田浩光氏
関西ペイント(株) 原川浩美氏
参加資格 正会員、准会員、シニア会員、正会員代理、一般の方
SCCJセミナー SCCJ会員 : 13,000円 / 一般 : 19,000円
参加費用備考 ・代理参加13,000円(※)
・当日参加19,000円(会員・一般ともに)

※代理参加とは・・・正会員が参加されない場合につき、代理として1名の参加が可能です。
資料1 資料1
資料2 資料2
お申し込み 日本化粧品技術者会 事務局
お問い合わせ TEL:045-590-6025 FAX:045-590-6093

申込期間は終了しました。